
来源:爱游戏平台游戏 发布时间:2025-12-08 05:53:24
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国家知识产权局信息数据显现,北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司请求一项名为“一种半导体结构及其构成办法”的专利,公开号CN121076054A,请求日期为2024年6月。
专利摘要显现,本请求供给一种半导体结构及其构成办法,所述半导体结构的构成办法有:在半导体衬底上构成复合介质层;刻蚀所述介质层以及半导体衬底至构成深沟槽,所述深沟槽的侧壁具有替换排布的若干尖角和凹部;选用离子束刻蚀工艺,调整刻蚀离子的入射角,使所述刻蚀离子别离作用于所述深沟槽侧壁的不一样的区域,以去除部分或许悉数所述尖角,并使所述深沟槽侧壁尖角与所述凹部之间的均匀距离变小;去除所述复合介质层。所描绘的办法可使深沟槽硅电容器的击穿电压均匀分布,进步器材的可靠性。
天眼查资料显现,北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司,成立于2017年,坐落北京市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本20000万人民币。经过天眼查大数据分析,北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司参加招投标项目22次,产业线条,此外企业还具有行政许可125个。
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